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顆粒跟蹤分析儀相關(guān)理論及性能
點(diǎn)擊次數:1704 更新時(shí)間:2017-03-23
顆粒跟蹤分析儀理論:
平移擴散常數可通過(guò)直接觀(guān)測待測顆粒的布朗運動(dòng)計算得到。通過(guò)測試電泳遷移率,可以得到zeta電位。
納米粒子跟蹤分析(NTA)和動(dòng)態(tài)光散射(DLS)
所有的光散射儀器,包括粒子跟蹤技術(shù),都存在一個(gè)問(wèn)題:當顆粒大小低于100nm時(shí),靈敏度會(huì )迅速的降低。動(dòng)態(tài)光散射技術(shù)的zui低檢測限是0.5nm,對于納米顆粒跟蹤分析,其zui低檢測限是10nm。通常,DLS和NTA的主要區別就在于濃度范圍。對于DLS,當樣品濃度太低時(shí),顆粒跟蹤分析儀可以非常圓滿(mǎn)的完成檢測任務(wù)。相反,對于高濃度的樣品,DLS方法會(huì )非常的適合。
顆粒跟蹤分析儀測量范圍
測量范圍依賴(lài)于樣品和儀器。對于金樣品,顆粒跟蹤技術(shù)的檢測下限為10nm;相應的,如果樣品的散射能力較弱,則檢測下限會(huì )變得更大。假如樣品穩定,不會(huì )沉淀或漂浮,zeta電位測量的粒徑上限為50微米,對于粒徑測量為3微米。
源于視頻分析的顆粒計數
顆粒濃度可通過(guò)視頻分析得到,并歸一化處理,散射體積對粒徑??蓹z測的zui小濃度為105粒子/cm3,zui大為1010粒子/cm3。對于200nm的顆粒,zui大體積濃度為1000ppm。
顆粒跟蹤分析儀特點(diǎn) - 全自動(dòng)和無(wú)源穩定性
自動(dòng)校準程序會(huì )持續工作,即便是樣品池被取出后。防震動(dòng)設計提高了視頻圖像的穩定性。通過(guò)掃描多個(gè)子體積并進(jìn)行平均,就可以得到可靠的統計結果。有3種測量模式可供選擇:粒徑,zeta電位和濃度。樣品池通道集成在一個(gè)插入式的盒子中,盒子可提供溫度控制以及同管理單元的耦合。
自動(dòng)掃描,zui多可達100個(gè)子體積;
自動(dòng)聚焦;
小巧,便于攜帶;
防震動(dòng);
光源從紫外線(xiàn)到紅光;
插入式樣品池;